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株式会社クレステック

貴方のキャリアと人生を世界のクレステックで開花させませんか?

全世界の最先端サイエンティスト・エンジニアと直接仕事をするフィールドです。

当社の生産用直接描画EBリソグラフィは世界の最先端装置です。当社は海外の光通信・情報通信のトップ企業と直接取引をしていますので、技術系社員の海外出張は日常茶飯事で全世界のトップ技術者と一緒に仕事が出来るフィールドがあります。
納入実績は、日本国内、北米・欧州・ロシア・中近東(イスラエル・サウジアラビア)・インド・中米(メキシコ)・韓国・台湾・中国・香港などで、今期はベラルーシ共和国へ納入しています。
技術系エンジニアとして世界へ出向いて技術で挑戦し、幅広い経験によって世界レベルの技術を習得することができます。

光・情報通信におけるDFB-LD(半導体レーザ)生産用EBリソグラフィのトップメーカー

当社はDFB-LD生産用EBリソグラフィのトップシェアを持つサプライヤーであると同時にDFB-LD用の描画方法を確立した先駆者です。
今から20年以上前の会社創業期に既に「フィールドサイズ変調(FSM)描画法」を確立して、NECとの共同特許を取得しました。同描画法は、回折格子ピッチを0.0012nmの分解能で描画できる方法で、現在のDFBレーザ生産に不可欠な先端技術です。

今後さらに拡大する当社の事業分野

当社のコアコンピタンスは、電子ビームの制御技術・応用技術です。このコア技術を商品にしたものが「直接描画EBリソグラフィ(DW-EBL):CABL-9000C シリーズ」です。数年前から「光・情報通信分野」において「多波長DFB-LD」の生産装置として「光露光装置」から「DW-EBL」への置換えが急速に進展し、当社はそのトップメーカーとして業界を牽引しています。今後同分野において「データセンター」「IoT」「5G基地局」等々への活用が予想され、DFB-LDの需要は、今後数年間年平均成長率30%が見込まれています。また「光通信分野」以外にも「加工・計測・分析」「自動運転車」「医療センシング技術」等々その他産業応用分野への用途拡大が期待されています。
更に、次世代パワー半導体である高電子移動度トランジスタ(HEMT)の開発・生産用として、「高エネルギーDW-EBL:CABL-UHシリーズ」が使用され始めており、5G基地局、スマートグリッド、電気自動車等の市場拡大への対応が必要になってきています。
 


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